江苏无锡光刻胶行业大咖齐聚宜兴
查看隐藏内容（*）需先登录
*月**日，****·光刻胶先进技术和产业应用研讨会在我市举行，吸引了众多“政产学研用”大咖齐聚一堂，为加快国内光刻胶核心技术突破与产业化应用出谋划策。中国科学院院士彭孝军、副市长薛皓月参加活动。光刻胶是电子化学品种技术壁垒最高的材料，也是集成电路生产制造的核心材料，在半导体、新型显示、印制电路板等行业的生产中具有重要作用。研讨会上，中国科学院院士彭孝军、资深技术专家赵健以及部分高校教授等，围绕集成电路、新型显示、PCB领域高性能光刻胶技术、产品应用研究以及光刻胶专用树脂、光引发剂等原料技术等展开专题报告，分享光刻胶领域最前沿的技术和产业应用。我市的******也在现场带来了题为《博砚电子在LCD用光刻胶国产化进展》的专题演讲，******在这一领域的相关科技研发和产业化成果。目前，该公司已完成了黑色光刻胶（BM）的开发和量产工作，成为国内首家、世界少数能够设计和生产平板显示光刻胶，并具有自主知识产权的企业。会上，薛皓月希望，与会人员在深入研讨、交流碰撞的同时，能够给予宜兴更多点拨和指导，并能深入考察宜兴、全面了解宜兴、创业投资宜兴。同时，宜兴也将以开放的胸怀、务实的作风和优质的服务，与大家一起努力创造光刻胶及集成电路相关产业发展的新未来。
