湖北武汉武汉大学双靶磁控溅射系统设备招标公告
查看隐藏内容（*）需先登录
根据国家采购与招投标法律法规的有关规定，武汉大学对双靶磁控溅射系统进行公开招标，欢迎具备相应资质和实力的供应商参加投标。现将有关事项公告如下： 一、招标范围： 双靶磁控溅射系统（主要技术指标：见附件）二、供应商资格要求 投标人必须是中国境内注册的独立法人,不能是法人联合体。 三、获取招标文件的时间、地点*、获取招标文件时间： ****年*月*日至 **** 年*月**日上午*:**－**:**,下午*:**－*:**(北京时间,节假日除外)； *、获取招标文件地点：武汉大学采购与招投标管理中心 *** 室； 四、投标截止时间、开标时间及地点 *、递交投标文件时间： **** 年*月**日上午*:**至*:** (北京时间) *、投标截止及开标时间： **** 年*月**日上午*:** (北京时间) *、投标、开标地点：武汉大学采购与招投标管理中心 五、采购人、联系人、技术负责人等。 采购人名称：武汉大学 采购联系人： 张老师 段老师联系电话：******** ********采购项目技术负责人：刘老师 联系电话：***********武汉大学采购与招投标管理中心****- **附件 双靶磁控溅射系统技术参数l 镀膜室极限真空：≤*×**-*Pa；l 抽气时间：**分钟内优于*×**-*Pa；l 真空室尺寸：φ***mm，真空室采用不锈钢加工而成，配玻璃观察窗，观察窗配防污挡板、基片设有预溅射挡板。顶盖可开启。正面设有可开启门侧门。l 靶尺寸、数量：*只φ**mm永磁靶；一个射频电源（***W），一个直流电源(****W)。可以切换，两靶都射频或者都直流。l 可以进行垂直溅射和共聚焦溅射，靶基距可调（**~**mm）；l 基片旋转，转速数显且连续可调。l 基片加热温度：*~***℃连续可调；l 气体种类：工作气体Ar+反应气体O*+反应气体N*；l *路MFC质量流量计控制气体流量；l 气路接口*毫米，采用威尔逊密封；l 配照明装置。l 真空测量：“两低一高” 数显复合真空计，两只电阻规分别测量前级及真空室低真空，一只电离规测量真空室高真空。l 配备冷却水循环机一台。l 对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。l 设备一体化。数量一套
