广东中山广东顺德中山大学卡内基梅隆大学国际联合研究院薄膜沉积和刻蚀系统设备采购项目单一来源采购公示
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广东顺德中山大学卡内基梅隆大学国际联合研究院（以下简称“国际联合研究院”）拟采用单一来源方式进行薄膜沉积和刻蚀系统设备采购，经初步市场调查，该项目属于《中华人民共和国政府采购法》第三十一条规定“只能从唯一供应商处采购”的情形。现按规定进行单一来源公示，供应商如有意见请在公示期内以书面形式反馈。同时邀请能够提供满足本项目采购需求且符合资格条件的其他供应商前来报名登记。一、 公示时间：****年*月**日至****年*月**日**:**时截止。二、 拟定采购供应商：******三、申请单一来源采购方式的理由：随着科研与教学工作的进展，国际联合研究院需要采购薄膜沉积和刻蚀系统设备来完成微纳米结构器件中的介质类薄膜沉积和刻蚀工作。该系统包括等离子体化学气相沉积系统（PECVD）、等离子反应刻蚀系统（ICP）和原子层沉积系统（ALD）。由于中山大学其他校区已有Oxford Instruments PlasmaTechnology的等离子体化学气相沉积系统设备四台，现考虑到和原有设备保持一致，以便于工艺调试，以及实验数据的平滑对接，只能采购同品牌的等离子体化学气相沉积系统；此外，国际联合研究院需要等离子反应刻蚀系统设备具有刻蚀GaN，Cr，AlSiCu，Cu ，Al的功能，并要求GaN刻蚀均匀性±*%，刻蚀侧壁角度**°；Al刻蚀均匀性±*%，刻蚀侧壁角度**°。经调研，目前只有Oxford Instruments PlasmaTechnology的等离子反应刻蚀系统能够在功能和性能上满足国际联合研究院的需求。国际联合研究院要求原子层沉积系统设备的Base真空度达到**-*Torr；Al*O*沉积速率在***oC 时达到*.* ?/cycle，沉积重复性±*%，在***mm wafer下沉积均匀性±*.*%，同时要求HfO*沉积速率在***oC 时达到*.** ?/cycle，沉积重复性±*%，在***mm wafer下沉积均匀性±*.*%。经调研，目前只有OxfordInstruments Plasma Technology的原子层沉积系统能够在功能和性能上满足国际联合研究院的需求。综上所述，考虑到Oxford Instruments Plasma Technology的薄膜沉积和刻蚀系统包括上述三个系统（PECVD、ICP和ALD），具有单一来源特性，因此，我们申请对薄膜沉积和刻蚀系统设备采用单一来源采购方式，从Oxford Instruments Plasma Technology在国内针对此项目的唯一授权经销商--******处进行采购。四、采购项目需求：（一）采购项目名称：薄膜沉积和刻蚀系统设备（二）项目内容：*.项目清单：序号名称(中英文)型号规格产品清单数量单位*等离子体化学气相沉积系统PECVDNGP**PECVD系统主机（包括控制电脑，显示器）、标准（***-***V，**Hz）电源箱各一台。标准（***W，**.**Mhz）射频源及自动匹配单元、（***W，***Khz）低频及自动匹配单元、最高温度***度下电极、*Torr真空量测计、阿尔科特ADS***P干泵及安装组件、可最多容纳**路气体的X**气盒、铝制载盘（直径***mm，带***mm凹槽）各一个。腐蚀性气体管路及流量计两路。非腐蚀性气体及流量三路。*套*等离子反应刻蚀系统ICPSystem***ICP***系统主机、（标准***-***V，**Hz）电源箱、Julabo FP**-SL冷水机各一台。ICP工艺腔体、工艺腔体加热件、抽气管道加热件、***mm直径加热/冷却下电极（带背氦功能）、（***W，**.**Mhz）射频源及自动匹配单元、（*KW，**.**Mhz）ICP射频源及自动匹配单元、***mTorr真空量测计、阿尔卡特ATH****MT涡轮分子泵及安装组件、阿尔卡塔ADP***P干泵及安装组件、Loadlock载片室、阿尔卡特ACP**G干泵及安装组件、可容纳最多**路气体气盒、气体加热套件、直径***mm石英卡环、直径***mm石英载片盘各一个。腐蚀性气体管路及质量流量计三路。非腐蚀性气体管路及质量流量计三路。*套*原子层沉积系统ALDOpAL系统主机（含控制电脑，显示器）一台。ALD工艺腔体、ALD***mm直径电阻式加热下电极、热方式工艺组件、*Torr真空量测计、阿尔科特****C*泵及安装组件各一个。前驱物质组件及吹扫气体两个。*套*.配置详细描述：产品型号性能描述数量NGP**PECVDBase真空度: **-*Torr；基板尺寸，温度范围和精度：下电极直径***mm，温度最高***℃，精度±*℃；wafer尺寸: ≤***mm；SiO*沉积速率**nm/min；★SiO*沉积片内均匀性±*%；SiO*沉积应力*.*GPa compressive (with refractive index *.**)；SiNx沉积速率**nm/min；★SiNx沉积片内均匀性±*%；SiNx沉积应力*** MPa Tensile（**.**MHz），** MPa Tensile（**.**MHz and ***KHz）。*套System***ICP***Base真空度: **-* Torr；基板尺寸，温度范围和精度: 下电极直径***mm，加热温度最高**℃，精度±*℃；GaN刻蚀速率：***nm/min；★GaN刻蚀均匀性：±*%；★GaN刻蚀侧壁角度：**°；Al刻蚀速率：**nm/min；★Al刻蚀均匀性：±*%；★Al刻蚀侧壁角度：**°；Cr刻蚀速率：**nm/min；Cr刻蚀均匀性：±*%；Cr刻蚀侧壁角度：**°。*套OpALBase真空度: **-*Torr；基板尺寸，温度范围和精度: 下电极直径***mm，温度最高***℃，精度±*℃；★Al*O*沉积速率：~*.* ?/cycle @ ***oC；★Al*O*沉积均匀性：±*.*%（***mm wafer）；Al*O*沉积温度：***oC-***oC；★Al*O*沉积重复性：±*%；HfO*沉积速率：~*.** ?/cycle @ ***oC；HfO*沉积均匀性：±*.*%（***mm wafer）；HfO*沉积温度：***oC-***oC；HfO*沉积重复性：±*%。*套五、供应商资格条件：*.供应商需满足《政府采购法》第二十二条规定的条件，且具备独立法人资格。*.供货商如非所报设备的制造商，必须为制造商在国内针对此项目的唯一授权经销商。*.本项目不接受联合体参加报价。六、专家论证意见及专家姓名、工作单位、职称单位名称广东顺德中山大学卡内基梅隆大学国际联合研究院项目名称广东顺德中山大学卡内基梅隆大学国际联合研究院薄膜沉积和刻蚀系统设备采购项目专家组论证意见鉴于科研的需求，国际联合研究院对设备性能和功能的较高要求（具有刻蚀GaN，Cr，AlSiCu，Cu ，Al的功能，并要求GaN刻蚀均匀性±*%，刻蚀侧壁角度**°；Al刻蚀均匀性±*%，刻蚀侧壁角度**°；原子层沉积系统设备的Base真空度达到**-*Torr；Al*O*沉积速率在***oC 时达到*.* ?/cycle，沉积重复性±*%，在***mm wafer下沉积均匀性±*.*%，同时要求HfO*沉积速率在***oC 时达到*.** ?/cycle，沉积重复性±*%，在***mm wafer下沉积均匀性±*.*%。），目前只有Oxford Instruments Plasma Technology的薄膜沉积和刻蚀系统能够在功能和性能上满足国际联合研究院的特殊需求，具有单一来源特性。专家认为本项目申请单一来源采购方式的理由充足，建议采购人以单一来源采购方式向政府采购监管部门申请采购。专家信息专家姓名工作单位职称苏成悦广东工业大学教授张佰君中山大学理工学院教授杨速兵广东省产品质量监督检验中心顺德分中心高工王宇华佛山科技学院教授杨锦汛佛山质检所高工七、报名联系方式*.联系人：郑先生*.电话：****-*********.传真：****-*********.地址：广东省佛山市顺德区大良街道办南国东路*号广东顺德中山大学卡内基梅隆大学国际联合研究院****年*月**日
